第十个字：遗
遗 yí：半包围结构，内外协调。
右上部“贵”字不要写宽，中宫收紧。上面“口”要扁，上宽下窄，稍抗肩，不要写大；竖笔高起，略左斜，稍重；横画离“口”要近，抗肩与上面协调，略呈拱形。下面“贝”字不要写宽，重心与上面直对：左竖起笔与上面左竖的收笔对齐，略左斜，不要重；横折虚接起笔，横画与上面两横等距平行，勿重，顿笔折肩要低，然后稍内擫向下写竖，稍重，稍长；中间两横靠左，勿重；底横画实接两竖；“八”字撇笔在左竖的右侧，勿重、勿长；最后点笔要托住右竖，稍长，稍重。
左下部“辶” 旁要注意把握与右上部的距离。点笔与“口”的上端平齐，收笔向左下稍回锋，以引出下一笔；横折弯钩起笔稍靠左、靠下，横画大抗肩，稍重，到位后往上抬笔锋，然后顿笔回锋走个小“S”弯，注意轻重变化何收笔的位置；平捺藏锋起笔，一波三折，舒展洒脱，注意捺脚与上面笔画的对应位置，最后捺尖要稍平压。
